上海微电子

2018年，上海微電子裝備所能投產的光刻机制程为90nm[2]，后于有传闻更精良的28nm光刻机制程據聞將於2021年首季問世[3][4][5]，但亦未確定28nm機型的量產能力，由於過去未如外國廠商集合商業聯盟進行聯合開發，在科研單位與業界支持力道不足下，因而銷售市佔主要僅在中低端光刻機與相關設備[6][7]，但隨著美國向中國大陸禁運光刻机，中国国产光刻机的发展被广受关注[8]。但據2021年《第一財經》報導，近日發布的《中國集成電路產業人才發展報告（2020-2021年版）》显示中國大陸半導體人才短缺高達20餘萬人，中國大陸半導體产业的情況并不樂觀[9]。

到了2023年5月開始，不少消息據稱更精良的首部28nm光刻机樣機＂SSA/800-10W＂據聞將於2023年末投入測試[10][11][12]，但是並沒有更多相關細節流出。

2022年7月7日，'上海微电子举行了首台2.5D/3D先进封装光刻机的交付仪式，但该机器是用于芯片下游制造的先进封装光刻机，并非此前关注的用于芯片上游制造的光刻机[13]。现今，上海微电子装备生产的先进封装光刻机在中国大陆的市占率达80%，海外市佔率达40%[13]。

• SSX600系列：用于芯片上游制造，最先进可以用于90nm晶片的制造[13]。
• SSX500系列：用于芯片下游制造，即先进封装[13]。
• SSX300系列，面向6英寸以下中小基底先进光刻应用领域[14]
• SSX200系列，专用于AM-OLED和LCD显示屏TFT电路制造，可应用于2.5代～6代的TFT显示屏量产线。[14]

• ASML

• SMEE官方网站（页面存档备份，存于）