乙矽烷

乙矽烷英語:),又稱矽乙烷,是一種有毒的化合物,分子式為Si2H6,在室溫下为气態。它的性質與乙烷很類似,都是無色易燃的氣體,但是它的矽-矽鍵比乙烷的碳-碳鍵還來的弱,因此比乙烷還不穩定。乙矽烷通常是很好的來源,只要經過簡單的化學反應就可以得到氫。另外它也可以用來以薄膜沉積製備純,是半導體工業重要的特用電子級氣體之一[3]

乙矽烷
识别
CAS号 1590-87-0  checkY
PubChem 74123
ChemSpider 66736
SMILES
 
  • [SiH3][SiH3]
InChI
 
  • 1/H6Si2/c1-2/h1-2H3
InChIKey PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYAQ
Gmelin 368
ChEBI 30597
性质
化学式 Si2H6
62.219 g·mol¹
外观 無色可燃氣體
密度 2.66 kg/m3(15℃)[1]
0.69 g·cm−3(−25 °C)[1]
熔点 -132.5 °C(141 K)([1]
沸点 -14.5 °C(259 K)([1]
溶解性 分解[1]
蒸氣壓 2940.2±0.0 mmHg at 25°C[2]
结构
分子构型 三斜晶系
偶极矩 0
危险性
主要危害 可燃,對皮膚會造成刺激
闪点 非常容易閃燃
相关物质
相关矽烷 SiH4
若非注明,所有数据均出自标准状态(25 ℃,100 kPa)下。

制备

乙硅烷通常由硅化镁水解而成。反应会产生甲硅烷、乙硅烷、甚至丙硅烷。该方法已被放弃用于生产甲硅烷,但它仍然可以用于生产乙硅烷。[4]痕量乙硅烷的存在是该方法产生的甲硅烷自燃的原因(类似地,二磷烷通常是磷化氢样品中自发自燃的污染物)。

甲硅烷通过光化学反应[5]和热分解,也可以产生乙硅烷。

它也可以通过 Si2Cl6氢化铝锂反应而成。[6]

应用

甲硅烷和乙硅烷在 640 °C下分解,会沉积非晶硅。这个化学气相沉积过程与光伏器件的制造有关。[4]它用于生产硅晶圆[7]

乙硅烷气体可用于控制 SiC 热分解生长石墨烯过程中,Si 蒸气的压力。 Si蒸气的压力会影响生产的石墨烯的质量。[8]

参考资料

  1. Record of Disilan in the GESTIS Substance Database from the IFA
  2. . [2021-07-11]. (原始内容存档于2021-08-09).
  3. (PDF). [2018-07-02]. (原始内容 (PDF)存档于2015-09-21).
  4. Barry Arkles "Silicon Compounds, Silanes" in Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology John Wiley & Sons, New York, 1997. DOI: doi:10.1002/0471238961.1909120101181112.a01.
  5. US Patent 4,604,274
  6. P. W. Schenk "Silanes" in Handbook of Preparative Inorganic Chemistry, 2nd Ed. Edited by G. Brauer, Academic Press, 1963, NY. Vol. 1. p. 680.
  7. Disilane 存檔,存档日期September 27, 2004,.
  8. Mishra, N. , Boeckl, J. , Motta, N. and Iacopi, F. (2016), Graphene growth on silicon carbide: A review. Phys. Status Solidi A, 213: 2277-2289. doi:10.1002/pssa.201600091 (check page 2280)

外部链接

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