舛岡富士雄

舛岡富士雄日语: Masuoka Fujio ?1943年5月8日),日本電子工程學家,日本東北大學名譽教授[1]快閃記憶體的發明者。紫綬褒章瑞寶重光章表彰。文化功勞者

舛岡富士雄
出生 (1943-05-08) 1943年5月8日
 日本群馬縣高崎市
居住地日本
国籍 日本
母校東北大學
知名于發明快閃記憶體
奖项IEEE Morris N. Liebmann紀念獎 (1997)
紫綬褒章 (2007)
文化功勞者 (2013)
瑞寶重光章 (2016)
科学生涯
研究领域電子學半導體
机构東芝
東北大學
Unisantis公司
博士導師西澤潤一
日語寫法
日語原文
假名
平文式罗马字

生平

舛岡富士雄於1943年在日本群馬縣高崎市誕生。群馬縣立高崎高等学校畢業,日本東北大學工學部畢業後進入「半導體先生」西澤潤一的研究室。1971年取得工學博士(東北大學)並加入東芝公司,開發SAMOS記憶體。他對非揮發性記憶體的點子有高度興趣,這是一種在電源關閉後,還能保存資料的記憶體。他在1980年發明NOR型快閃記憶體,1986年發明NAND型快閃記憶體,推動東芝成為世界半導體產業的巨頭,徹底改寫人類資訊時代的面貌。

舛岡在1994年返回擔母校東北大学任教,1996年成為東北大学電気通信研究所教授。2004年起擔任Unisantis公司電子首席技術官。[2]繼續研究三維構造半導體Surrounding Gate Transistor技術。

專利訴訟

在很長一段時間中,東芝公司不承認NOR型快閃記憶體是舛岡富士雄的發明,直到電機電子工程師學會(IEEE)在1997年授予舛岡IEEE Morris N. Liebmann紀念獎後才改口。2006年舛岡起訴東芝,索賠10億日元,最後達成和解得到8700萬日元(合758,000美元)。

榮譽

主要論文

  • K Hieda, F Horiguchi, F Masuoka. "High performance CMOS surrounding gate transistor (SGT) for ultra high density LSIs." Electron Devices Meeting, 1988. IEDM'88. Technical Digest., International. IEEE, 1988.
  • A Nitayama, F Horiguchi, F Masuoka. "A surrounding gate transistor (SGT) cell for 64/256 Mbit DRAMs." Electron Devices Meeting, 1989. IEDM'89. Technical Digest., International. IEEE, 1989.
  • K Hieda, F Horiguchi, F Masuoka. "Impact of surrounding gate transistor (SGT) for ultra-high-density LSI's." IEEE Transactions on Electron Devices 38.3 (1991): 573-578.
  • K Hieda, F Horiguchi, F Masuoka . "Multi-pillar surrounding gate transistor (M-SGT) for compact and high-speed circuits." IEEE Transactions on Electron Devices 38.3 (1991): 579-583.
  • F Horiguchi, K Ohuchi, F Masuoka. "A novel circuit technology with surrounding gate transistors (SGT's) for ultra high density DRAM's." IEEE Journal of Solid-State Circuits 30.9 (1995): 960-971.

相關條目

參考

  1. Fulford, Benjamin. . Forbes. 24 June 2002 [2008-03-18]. (原始内容存档于2018-10-28).
  2. . [2013-06-16]. (原始内容存档于2007-02-22).
  3. . [2008-05-16]. (原始内容存档于2008-10-08).

外部連結

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