180纳米制程

180纳米制程,又稱0.18微米製程,是半导体制造制程的一个水平,大约于1999年至2000年左右达成。[1][2] 这一制程是由当时领先的半导体公司如英特尔德州仪器IBM台積電所完成的。

一些CPU最初是由这个制程所制造。其中包括英特尔奔腾III处理器。这是第一个沟道长度小于用于光刻的光的波长的制程。

具有180纳米制程的产品

参考文献

  1. Mueller, S. . informIT. 2006-07-21 [2012-05-11]. (原始内容存档于2015-04-27).
  2. Myslewski, R. . TheRegister. 2011-11-15 [2015-04-19]. (原始内容存档于2015-04-27).
先前
250纳米制程
半导体器件制造制程 其後
130纳米制程
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