10微米制程

10 µm制程半导体制造制程的一个水平,大约于1971年左右达成。[1][2] 这一制程由当时领先的半导体公司如英特尔所完成。

具有10微米制程的产品

参考资料

  1. Mueller, S. . informIT. 2006-07-21 [2012-05-11]. (原始内容存档于2015-04-27).
  2. Myslewski, R. . TheRegister. 2011-11-15 [2015-04-19]. (原始内容存档于2015-04-27).
  3. . [2015-04-19]. (原始内容存档于2015-04-27).

外部链接

先前
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半导体器件制造制程 其後
6微米制程
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